廢氣處理設備主要分為以下幾種：

        1.吸收設備

        吸收法采用低揮發或不揮發性溶劑對VOCs進行吸收，再利用廢氣處理塔VOCs和吸收劑物理性質的差異進行分離。

        含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔頂的吸收劑逆流接觸，凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入 汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液 分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。

        2.吸附設備

        在用多孔性固體物質處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附的對象是氣態污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質，多孔固體物質稱為吸附劑。

        固體表面吸附了吸附質后，一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離，此現附。而當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈 化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附，以協的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生 一再吸附的循環過程，達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。

        3.醫藥廢氣的燃燒及催化凈化設備

        燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的醫藥化合物時，燃燒生成產物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理。

        4.光催化和生物凈化設備

        光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中醫藥污染物完全氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

        從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或 硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中 的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是Z廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

        5.醫藥醫藥廢氣的低溫等離子體的治理設備

        等離子體就是處于電離狀態的氣體，其英文名稱是plasma，它是由美國科學 muir，于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現象時命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發態原子、光子和自由基等組成，但電子和正離子的電荷 數必須體表現出電中性，這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質的第四種狀態。